Particle beam lithography system for microcircuit mfr.

Verfahren zum Erzeugen von Mustern auf Substraten mittels Korpuskularstrahl-Lithographie

Abstract

The lithography system uses overlapping address fields (1), with the particle beam electrically deflected for inscribing the required pattern in the inner area (2) of each field and the substrate displaced for moving from field to field. A readable marking (4) is provided in the overlap area of each address field, at a given relative position to the address field, used for alignment of the substrate during the displacement for the recording of the next field. Pref. the position correction can be effected by auxiliary deflection of the particle beam.

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (5)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    DE-102004055149-A1June 01, 2006Leica Microsystems Lithography GmbhVorrichtung und Verfahren zum Abbilden eines Mehrfach-Partikelstrahls auf ein Substrat
    DE-102004055149-B4July 19, 2007Leica Microsystems Lithography GmbhVorrichtung und Verfahren zum Abbilden eines Mehrfach-Partikelstrahls auf ein Substrat
    DE-19921089-A1November 09, 2000Hertz Inst HeinrichVerfahren zur Herstellung einer regelmäßigen Gesamtrasterstruktur und Anwendung des Verfahrens
    DE-19921089-B4July 29, 2004Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.Verfahren zur Herstellung einer regelmäßigen Gesamtrasterstruktur und Anwendung des Verfahrens
    US-7332730-B2February 19, 2008Leica Microsystems Lithography GmbhDevice and method for imaging a multiple particle beam on a substrate